中兴事件让国人意识到掌握底层尖端技术的重要，也激发出国人空前的爱国热情。很多人常常在看头条时，动不动就评论说要掌握核心科技。是的，要掌握核心科技，然而科技的发展，光有热情是远远不够的，尤其是光刻机的研制。

光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。也正是因此，能生产高端光刻机的厂商非常少，到最先进的14nm光刻机就只剩下ASML，日本佳能和尼康已经基本放弃第六代EUV光刻机的研发。

几年前，我国已经研制出了自己的光刻机，那是上海微电子装备公司生产的，加工精度是90nm。而国际顶级光刻机ASML已经在向7nm进军。(网上有人吹嘘中国已经研制成功7nm光刻机，纯粹扯淡。)

即使如此，我国也一直没有放弃对光刻机的研究，年，清华大学召开了“光刻机双工件台系统样机研发”项目验收会，专家组对项目任务完成情况予以高度评价，并一致同意该项目通过验收。

工件台系统是光刻机的重要子系统，工件台系统的运行速度、加速度、系统稳定性和系统的定位建立时间对光刻机的生产精度和效率起着至关重要的作用。本次“光刻机双工件台系统样机研发”项目验收，标志中国在双工件台系统上取得技术突破，但这仅仅是实现光刻机国产化万里长征的一部分，距离打破ASML的技术垄断还有很长的路要走。

然而，光刻机有13个子系统，3万多机械部件，多个传感器，每一个都要稳定；光刻机需要有顶级的镜头和光源，需要有极致的机械精度。光刻机精度，决定了芯片的上限。

即使顶尖光刻机的图纸放在你的面前，如何安装，如何将系统的误差分配到子系统，在这其中，只要有一根光纤，一行软件编码，一个小动作做不好，整个系统就不能正常运转。

ASML的成功并非偶然，一方面它源自飞利浦，累积的底层技术强大，同时于7年收购了光刻缺陷检测的顶尖企业睿初(Brion)科技；年收购世界领先的准分子激光源提供商Cymer公司，以弥补自己的不足。就这样，美国的光栅，德国的镜头，瑞典的轴承，法国的阀件等，构成了一亿美元的ASML光刻机。

如今SMEE每年增加数百项专利，以中低端市场支持高端研发。而国际巨头仍在前进，发展浸没式光刻机（光在水中波长更短）、磁悬浮驱动（减少工作面震动）、反射镜代替透镜技术、真空腔体的极紫外光学系统……

面对如此大的差距，中国有没有必要继续研制光刻机？欢迎

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